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wenzhang:1810:gyx

较宽松条件下透明强磁体薄膜的制备与表征

郭一昕a,胡勇b,谢宁b,王中平b
(中国科学技术大学 a.物理学院;b.物理实验教学中心,安徽 合肥 230026)

  摘 要: 通过设计实验,采用双靶同时溅射技术,使得铁钴合金和氟化物可以同时溅射,从而在宽松要求的实验条件下获得了特性较好的透明强磁体材料薄膜. AFM和SEM表征结果显示,透明强磁体材料薄膜生长状况良好. 紫外可见近红外分光光度计与磁化强度的测量结果显示,透明强磁体材料薄膜的透光与磁化性质优良. 进一步使用均匀掺杂氟化物的铁钴合金靶材,解决了XRF表征时难以探测到氟化物信号的问题. 溅射初期少量缓缓通入N2,增强了薄膜的耐磨性.
  关键词: 透明强磁体薄膜;磁化强度;透光率;耐磨性

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wenzhang/1810/gyx.txt · 最后更改: 2018/11/13 22:49 由 guoweilw